
应用:
液压,机床,测试和测量和其它一般工业过程应用。
优点和特点:
K2压力传感器与K1类似,但能提供毫伏输出。K2是一款结合多晶硅薄膜技术的成熟且多功能的压力传感器。现代的低压化学气相沉积工艺为金属薄膜和多晶硅之间提供了简单而可靠的分子连接方式。没有任何导致输出信号的不稳定性和漂移的环氧或添加剂附着在上面。
整体的金属隔膜和多晶硅电桥几乎不受冲击,振动或装配的影响。
该传感器有多种标准压力量程可选择,并都拥有高质量的按电源比例变化的毫伏级输出信号。传感器性能由NIST追溯,每只传感器都提供校验证书。